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        真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍

        作者: 來源: 日期:2020/12/25 12:36:43 人氣:4450

        真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍 

         真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型,它們都是采用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,同時具有速度快附著力好的突出優點,可以進行操作的金屬類型較少,一般用來作較高檔產品的功能性鍍層。


        真空蒸鍍法是在高真空下為金屬加熱,使其熔融、蒸發,冷卻后在樣品表面形成金屬薄膜的方法,鍍層厚度為0.8-1.2um。將成形品表面的微小凹凸部分填平,以獲得如鏡面一樣的表面,無任是為了得到反射鏡作用而實施真空蒸鍍,還是對密接性較低的奪鋼進行真空蒸鍍時,都必須進行底面涂布處理。


        濺鍍通常指的是磁控濺鍍,屬于高速低溫濺鍍法。該工藝要求真空度在1×10-3Torr左右,即1.3×10-3Pa的真空狀態充入惰性氣體氬氣(Ar),并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,由于輝光放電(glow discharge)產生的電子激發惰性氣體,產生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子轟出,沉積在塑膠基材上。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍。

         

        離子鍍是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離,并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。

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